Direction le Japon où l’Institut des Sciences et Technologie d’Okinawa (IOST) se creuse la soupière pour simplifier les processus de gravure EUV. Pour faire simple, c’est le type de gravure qui est exploité dans la plupart des puces haut de gamme actuellement. Cependant, le process de gravure actuel est complexe, nécessite de grosses maintenances et que dire de la consommation…
Le Japon recherche un moyen de simplifier la gravure EUV !
Pour faire simple, l’objectif serait de proposer des machines simplifiées permettant les gravures EUV. Actuellement, avec les machines actuelles exploitant ce processus, nous retrouvons pas moins de six miroirs voire plus. Là, le but serait de passer à deux miroirs. Ceci simplifierait énormément les outils de production tout en réduisant le risque de panne potentielle.
De plus, cette simplification permettrait une réduction massive de la consommation. Avec cette nouvelle méthode, il serait possible d’obtenir des résultats similaires à ce qui est disponible actuellement tout en consommant quelque 100 kW… À mettre en opposition aux 1 MW nécessaires actuellement. Oui, une fab, ça consomme beaucoup de courant, d’ailleurs nous sommes curieux de connaître le montant de la facture de TSMC sachant qu’elle a augmenté de 30% récemment.
Enfin, qui dit machine simplifiée et moins énergivore dit également des frais opérationnels en baisse. Cette diminution des coûts devrait également se ressentir sur le prix des composants qui a énormément augmenté dernièrement… À supposer que le modèle japonais parvienne à se démocratiser.
