Intel ouvre enfin les vannes sur le 10 nm

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Avec près de 4 ans de retard sur le calendrier annoncé, Intel commence enfin à profiter de sa « Fab 42 » située dans l’Arizona et  qui va lui permettre de produire du 10 nm en volume.

L’histoire de cette unité de fabrication ou usine, est particulière. Tout commence en 2011 lorsque Intel décide de sa construction au sein d’un site disposant déjà d’autres Fabs.
En 2013, la construction est terminée et, un an plus tard, toute l’infrastructure de fabrication de silicium est implantée dans l’usine. Mais c’est là que les soucis ont commencé. En 2014, Intel n’est pas sûr de produire des wafers à 14 nm car ils ne s’attendent pas à une forte demande. L’usine est donc rentrée dans une phase de sommeil. Le projet pour cette usine devait conduire à produire des wafers de 450 mm (au lieu de la norme de l’industrie 300 mm) en 14 nm. L’idée est alors d’utiliser cette fabrication pour amortir les pics de productions. La situation de ces derniers mois a fait basculer la conception vers le 10 nm.
Fab 42 est depuis le début de l’année le plus grand site de fabrication de semi-conducteur aux USA, et aussi le premier réseau « megafactory » d’Intel avec près de 83 612 m² de surface de production et 12 000 employés dont 3000 ont été engagés durant derniers 18 mois.

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Intel Fab 42 10nm
La Fab 42 va enfin permette à Intel d’exploiter le 10nm à pleine capacité

Depuis près de 7 ans, la Fab 42 attendait pour démarrer la production de wafers.  Son objectif est maintenant d’augmenter la capacité de production pour répondre à la demande du processus 10 nm de pointe d’Intel. Plus rien ne semble en mesure de contrarier son destin bien que l’on puisse s’interroger rapidement sur son avenir.

Intel Fab 42Ce site a fait l’objet d’un investissement énorme de la part d’Intel. De plus, l’entreprise va sans doute chercher à faire migrer la Fab 42 vers le process 7 nm attendu depuis bien longtemps chez les bleus.

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